真空鍍膜是一種由物理方法產(chǎn)生薄膜材料的技術(shù)，它是將在真空室內(nèi)材料的原子從加熱源離析出來打到被鍍物體的表面上。這項(xiàng)技術(shù)最先是應(yīng)用于生產(chǎn)光學(xué)鏡片，如航海望遠(yuǎn)鏡鏡片等。之后延伸到其他功能薄膜，唱片鍍鋁、裝飾鍍膜和材料表面改性等。如手表外殼鍍仿金色，機(jī)械刀具鍍膜，改變加工紅硬性。目前真空鍍膜的形式大致可以分為蒸發(fā)鍍膜、濺射鍍膜和離子鍍。
       其中通過加熱蒸發(fā)某種物質(zhì)使其沉積在固體表面，稱為蒸發(fā)鍍膜。這是應(yīng)用最早的鍍膜技術(shù)，也是現(xiàn)代常用鍍膜技術(shù)之一；而濺射鍍膜是指用高能粒子轟擊固體表面時(shí)能使固體表面的粒子獲得能量并逸出表面，沉積在基片上；而最新型的鍍膜技術(shù)-離子鍍是指蒸發(fā)物質(zhì)的分子被電子碰撞電離后以離子沉積在固體表面。離子鍍技術(shù)指真空蒸發(fā)于陰極濺射技術(shù)的結(jié)合，它綜合了蒸發(fā)與濺射工藝的特點(diǎn)，并有很好的繞射性，可為形狀復(fù)雜的工件鍍膜，但是離子鍍膜機(jī)價(jià)格相比于傳統(tǒng)的真空鍍膜機(jī)要更加昂貴。

離子鍍膜機(jī)常見的離子鍍類型及特點(diǎn)

CCZK-ION多弧離子真空鍍膜機(jī)

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