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多弧離子真空鍍膜機的電弧蒸發(fā)

    多弧離子真空鍍膜機作為離子鍍膜機產(chǎn)品種類中的一種,電弧蒸發(fā)是離子鍍膜機的重要特點之一,多弧離子真空鍍膜機也不例外。
    電弧蒸發(fā)源礦業(yè)是Ti,AI,Zr,Cr等單相靶材,也可以是它們組成的多相靶材。多弧離子真空鍍膜機的應(yīng)用非常寬廣,實用性能很強。除了有多種其他的離子鍍法外,尤其是在高速鋼切削工具及應(yīng)用程序等超硬鍍TiN膜的快速發(fā)展,使得進入產(chǎn)業(yè)化階段。多弧離子真空鍍膜機是現(xiàn)在用于表面涂裝PVD膜層專用設(shè)備,通過自動化的邏輯程序設(shè)計控制操作。多弧離子真空鍍膜機的外觀簡單優(yōu)雅,設(shè)備內(nèi)部結(jié)構(gòu)設(shè)計合理穩(wěn)定,操作簡單易上手。多弧離子真空鍍膜機還具有環(huán)保節(jié)能的特點,是一款真正意義上的無三廢、無污染的清潔生產(chǎn)設(shè)備。
離子鍍膜機在光學上面的發(fā)展

CCZK-ION多弧離子真空鍍膜機

CCZK-ION多弧離子真空鍍膜機


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